主要優(yōu)點(diǎn)

•   配備了納米壓印光刻工具，它綜合了熱壓印以及紫外納米壓印光刻，在步進(jìn)和重復(fù)模式下，可對至高達(dá)300毫米的晶圓進(jìn)行處理
•   20納米以下的印刷分辨率以及250納米的堆疊精度，應(yīng)用范圍非常廣：圖案化媒體存儲、光學(xué)、生物等……
•   可以添加惰性氣體來提高印制速度
•    精度高、液體配料少
•   自動印模拾取，具有較高靈活性，并且印模尺寸從50/65毫米可擴(kuò)展到100毫米
•   手動或自動化晶圓裝載/卸載
•   空氣軸承技術(shù)以及花崗巖結(jié)構(gòu)確保了長期的穩(wěn)定性和可靠

工藝能力

用于熱壓印或紫外納米壓印光刻的步進(jìn)和印模印刻技術(shù)是芬蘭VTT技術(shù)研究中心已經(jīng)驗(yàn)證過的創(chuàng) 新方法。

•  熱壓印技術(shù)：該方法包括通過控制熱量和壓力將印模圖案轉(zhuǎn)印到熱塑性壓印材料中
•  紫外納米壓印光刻技術(shù)：是一種使用原位印刻配料以及紫外固化的步進(jìn)和固化方法。當(dāng)需要20納米以下的分辨率時，這種尖 端技術(shù)就成為了一種替代標(biāo)準(zhǔn)紫外光刻系統(tǒng)的非常有前景的解決方案。

應(yīng)用

•   光子器件
•   高精度微光陣列和光柵
•   CMOS-MEMS集成
•   高分辨率OLED顯示器
•   用于移動存儲的高密度HDD
•   其他新興技術(shù)

納米壓印光刻技術(shù)

納米結(jié)構(gòu)的低成本生產(chǎn)方案正在開發(fā)中，這可能是半導(dǎo)體、MOEMS與光電子技術(shù)未來發(fā)展的驅(qū)動力。特別是，納米壓印光刻技術(shù)（NIL）及其變體已發(fā)展成為一種具有成本效益的技術(shù)，它可以替代高分辨率電子束光刻技術(shù)來印刷小于20納米的幾何形狀。

印刻的原理是采用熱或是紫外線固化工藝，使用帶有納米圖案的印模對聚合物薄膜進(jìn)行機(jī)械按壓。帶有圖案的聚合物可以作為至終設(shè)備，例如成像傳感器的透鏡、微流控芯片、生物醫(yī)學(xué)陣列等。它也可以作為一種高分辨率掩模應(yīng)用于隨后的工藝步驟中。

印刻是一種簡單的光刻技術(shù)。它有三個基本的工藝步驟：

•   將印模與已預(yù)涂印刻材料的基板進(jìn)行對準(zhǔn)
•   將印模壓入印刻材料以轉(zhuǎn)印印模表面上的圖案
•   將印模從印刻材料中分離出來

我們可以描述三種印刻或壓印技術(shù)：熱壓印技術(shù) (HEL)，其使用熱塑性材料；紫外納米壓印技術(shù)（UV-NIL），其使用液體抗蝕劑并在成型后用紫外光進(jìn)行固化；以及軟光刻技術(shù)，其使用沖壓方法將預(yù)先在軟印模上處理好的油墨轉(zhuǎn)印到基板上。